アイドリング電流を絞ると、バイアス電圧が深くなる結果トータルゲインが減少しNFBが浅くなることを 失念していた私は、発熱が少ない方が良いかな〜っとアイドリングを減らして仕上げようとしていました。 そしたら、期待を裏切られる結果に...

対比を際立たせるため、このページの測定結果はWESTING HOUSE製の球を使って測定しています。 最終の測定データは松下製の球を使いました。 松下製は若干バイアスが浅く、リニアリティが良いみたい です。一方WESTING HOUSE製は残留ノイズが低くなりました。

このときのアイドリング電流の設定値は、プレート電流とスクリーングリッド電流を足して12.5mA でした(コントロールグリッド電圧は−5.5V、−5.3V)。ちなみに仕上げ状態では18.75mA (同じく−4.2V、−4.1V)です。両者のゲイン差は無帰還状態で5dBほどあります。同じ帰還定数で NFBを掛けると帰還量において約3.5dBの差が出ます。

歪率はこれが同じアンプかと疑いたくなるほどの差が出てしまいます。最大出力はこちらの方が大きくなって いますが、WESTING HOUSE製の球の方が飽和電圧が小さいためではないかと思います。 ちなみにダンピングファクターはON/0FF法でLchが7.25、Rchが7.30でしたので、倍ほどの 差があります。

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